歌尔光学在美国SPIE大会上发布了采用表面浮雕刻蚀光栅工艺的全新AR全彩光波导显示模组Star G-E1，实现了AR光学镜片先进刻蚀工艺的新突破。该模组采用高折射率材料和表面浮雕刻蚀光栅工艺，具备高均匀性、高亮度、低杂光等特性，即使在亮光环境下也能保持清晰舒适的显示效果。该工艺突破了传统纳米压印技术在高折射率材料应用上的瓶颈，提供更广泛的折射率选择，同时具备更强的耐紫外线性能。Star G-E1采用单层光波导镜片，厚度0.7毫米，并采用Micro LED显示方案，光机体积小于0.5立方厘米。

✨Star G-E1模组采用高折射率材料和表面浮雕刻蚀光栅工艺，实现了“高均匀性、高亮度、低杂光”的特性，即使在亮光环境下也能提供清晰舒适的显示效果。

🔬该工艺突破了传统纳米压印技术在高折射率材料应用上的瓶颈，提供了更广泛的折射率选择，并具备更强的耐紫外线性能，从而提升了产品的可靠性和耐用性。

🌈Star G-E1通过优化光栅材料和结构，实现了5000尼特的峰值亮度，亮度均匀性超过45%，色差小于0.02，相比同类技术方案分别提升约50%和100%，显著减少了图像颜色偏差，提升了色彩表现。

👓Star G-E1采用单层光波导镜片，厚度仅为0.7毫米，并结合Micro LED显示方案，使得光机体积小于0.5立方厘米，实现了AR设备在轻薄化和小型化上的突破。

IT之家 2 月 5 日消息，歌尔股份控股子公司歌尔光学科技有限公司（以下简称“歌尔光学”）日前在美国 SPIE （国际光学工程学会）AR | VR | MR 大会上，发布采用表面浮雕刻蚀光栅工艺的全新 AR 全彩光波导显示模组 Star G-E1，实现在 AR 光学镜片先进刻蚀工艺的新突破。

歌尔股份公告称，Star G-E1 模组采用高折射率材料和表面浮雕刻蚀光栅工艺，具备“高均匀性、高亮度、低杂光”等特性，即使在亮光环境下也能保持“清晰舒适的显示效果”。

IT之家从公告获悉，这一工艺突破了传统纳米压印技术在高折射率材料应用上的瓶颈，提供更广泛的折射率选择，同时具备更强的耐紫外线性能。通过优化光栅材料和结构，Star G-E1 可实现 5000 尼特的峰值亮度。其亮度均匀性超过 45%，色差小于 0.02，对比同类技术方案分别提升约 50% 和 100%，减少了图像颜色偏差，提升色彩表现。

另外，Star G-E1 采用单层光波导镜片，厚度 0.7 毫米，并采用 Micro LED 显示方案，光机体积小于 0.5 立方厘米。