光掩膜版作为芯片生产的关键物料，其技术门槛高，国产化率为零，成为制约芯片产业发展的“卡脖子”环节。随着半导体制造业向中国大陆迁移，国内对光掩膜版需求持续增长，市场空间广阔。宁波冠石半导体作为国内技术领先的光掩膜版生产企业，将填补国内高阶制程光罩空白，打破国外垄断，提高产业安全可控性。文章重点介绍了冠石半导体在技术团队、产能以及与中芯国际的合作等方面的情况，并指出其在DUV光刻机+多重曝光技术下实现突破的潜力，以及未来市场发展前景。

🤔光掩膜版是芯片生产的关键物料，技术门槛高，国产化率为零，是芯片产业的‘卡脖子’环节，市场空间广阔。

💪宁波冠石半导体将填补国内高阶制程光罩空白，打破国外垄断，提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性，是国产替代的重要力量。

🏭冠石半导体一期洁净车间设计产能为月产5000片180纳米至28纳米集成电路掩模版，技术团队实力雄厚，与中芯国际深度合作。

💡在DUV光刻机+多重曝光技术下，光掩膜版尤为重要，冠石半导体有望在该领域实现突破，其产品m70即将发布。

🌟冠石半导体董事长是唯一能实现28NM量产的公司，技术团队由台积电首批参与掩模版生产人员组成，拥有全球顶尖的技术实力。

来源：雪球App，作者： 逻辑的声音，（https://xueqiu.com/8836308794/311905615）

前言：

光刻机中最关键的一项物料——光掩膜版！制约着整个芯片的生产过程。（他作为芯片的母板可以把芯片电路拆分成N个部分，然后每个部分单独一张掩膜版，单独进行曝光）

光掩膜版它是芯片的母版，它如果有一点点偏差，那么生产出来的芯片就是废品。跟光刻胶不同光掩膜版的技术门槛更高，卡脖子点更多。

随着半导体制造业向中国大陆迁移的趋势，预期国内对光刻掩模的需求将在未来持续增长。预计到2027年，国内65-130纳米掩模版市场规模将达到约35.3亿元人民币。进一步推测，28-130纳米掩模版市场的规模将接近100亿元人民币。目前，该领域的国产化率仍为零，这意味着国产替代的市场空间极为广阔。

光掩模版制造是数字经济产业的关键技术，是急需补上的“卡脖子”产业，也是弯道超车、换道超车的重要赛道。宁波冠石半导体是新区补齐半导体产业链的重要一环。企业建成投产后将成为国内技术能力先进的独立光掩模版生产企业，可填补国内高阶制程光罩空白，打破国外高端光掩模版的垄断局面，提高我国半导体光掩模产业的安全和可控性。

国内在被全球封锁先进制程的情况下，只有采用DUV光刻机+多重曝光技术尝试突破。这里因为要多重曝光，所以光掩膜版就尤为重要，因为一旦出差错就成废片！

m70发布在即，采用多重曝光的芯片就是变现出在采用DUV光刻机+多重曝光技术下实现了突破。

公司跟H公司有长期合作。

1，董事长实锤唯一能实现28NM量产的公司。

2，技术团队最强；冠石科技深度捆绑中芯国际，项目负责人陈新晋系台积电首批参与掩模版生产人员。技术团队全球顶级，掩膜版总负责人出身张汝京团队（陈新晋），张汝京是中芯国际创始人（青岛芯恩也是由他创立），中国芯片之父，同时项目的生产技术人员有台积电背景，也代表着全球最强的代工技术之一。

当前，冠石一期洁净车间设计产能为月产5000片180纳米至28纳米集成电路掩模版。